【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.06.26】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23NM5377

利用課題名 / Title

プリンテッドエレクトロニクスの研究

利用した実施機関 / Support Institute

物質・材料研究機構 / NIMS

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials

キーワード / Keywords

アクチュエーター/ Actuator,センサ/ Sensor,スパッタリング/ Sputtering

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

三成 剛生

所属名 / Affiliation

物質・材料研究機構

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

北口絵里

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

大井 暁彦,浦野 絵里,石川 政彦,藤井 美智子

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NM-605：水蒸気プラズマ洗浄装置 [AQ-500 #1]
NM-607：スパッタ装置 [CFS-4EP-LL #3]

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

フレキシブル基板上での電極加工を行うことで、薄膜センサデバイスおよび薄膜アクチュエータの開発を行った。

実験 / Experimental

フレキシブル基板への電極の密着性を高めるために酸素プラズマ処理を行い、さらにセンサおよびアクチュエータ向けのTi/NiおよびTi/Au電極をスパッタで形成した。

結果と考察 / Results and Discussion

作製したセンサデバイスを図１に示す。酸素プラズマを行ったため、フレキシブル基板への電極の密着性を高めることができた。スパッタリングにより、高性能なニッケル電極および金電極を形成することができた。作製した薄膜デバイスにおいて、所望の特性を得ることができた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

図1. 作製したセンサデバイス

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：1件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件