【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.04.27】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22TU0083
利用課題名 / Title
絶縁膜の耐電圧特性評価 / Withstand voltage test of insulating film
利用した実施機関 / Support Institute
東北大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion
キーワード / Keywords
PVD,スパッタリング/Sputtering,リソグラフィ/Lithography,パワーエレクトロニクス/ Power electronics,ワイドギャップ半導体/ Wide gap semiconductor,パワーエレクトロニクス/ Power electronics
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
菅田 博雅
所属名 / Affiliation
株式会社シンクロン
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
阿部貫思,須貝優磨,稲瀬陽介,菅原卓也
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
菊田利行
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
TU-002：有機ドラフトチャンバー
TU-053：アクテス スピンコータ#2
TU-058：マスクレスアライナ
TU-158：芝浦スパッタ装置（加熱型）
TU-107：ランプアニール装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
東北大学ナノテク融合技術支援センターの設備を利用しFig. 1に示すMIMキャパシターを作製し、PVDで成膜したAl2O3およびSiO2膜の電気特性を測定した。
実験 / Experimental
4インチSi基板上にリソグラフィによりMIMキャパシターのTEGを作製した。Fig. 2に示すように半導体パラメータアナライザにより電気特性を測定した。
結果と考察 / Results and Discussion
Fig. 3にSIO2を絶縁膜としたTEGの電気特性の測定結果を示す。TEG上のMIMキャパシターを10ヶ所測定したデータから良好な再現性が得られた。このことからリソグラフィによる作製手法も良好であったと思われる。今年度の目的はMIMキャパシターのTEGを再現性良く作製できることにあり当初の目的は達成出来ました。社内にこのような実験設備は所有しておらず東北大学様のご協力なしには実現できませんでした。深く御礼申し上げます。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 MINキャパシターの模式図
Fig. 2 TEGによる電気特性評価
Fig. 3 作製したMIMキャパシターの電気特性（耐電圧）評価
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
東北大学 未来科学技術共同研究センター様にて電気特性および環境測定の評価も並行して行っております。こちらも感謝申し上げます。
【その他利用機器】：
・TU-160, TU-215,TU-327
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件