【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.04.17】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22TU0067
利用課題名 / Title
高精細発光素子のパターニング技術開発
利用した実施機関 / Support Institute
東北大学 / Tohoku Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed
キーワード / Keywords
発光素子、高精細パターニング,蒸着・成膜/Evaporation and Deposition,CVD,スパッタリング/Sputtering,リソグラフィ/Lithography,膜加工・エッチング/Film processing and Etching,高品質プロセス材料
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
辻埜 和也
所属名 / Affiliation
シャープディスプレイテクノロジー株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
小坂知裕、折田城彦
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
戸津健太郎、森山雅昭
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
TU-063：i線ステッパ
TU-062：コータデベロッパ
TU-101：酸化炉
TU-160：自動搬送 芝浦スパッタ装置（加熱型）
TU-154：住友精密TEOS PECVD
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
新規超高精細自発光ディスプレイ開発のため、3000 ppi以上のパッシブ駆動用バックプレーンプロセスを検討した。東北大学マイクロシステム融合研究開発センターのi線ステッパを利用し、3000 ppi以上の配線パターンの作製と電気評価を実施した。
実験 / Experimental
基板として酸化炉にて熱酸化膜を形成したSiウエハを用い、上層配線材料/層間絶縁膜（コンタクトホール）/下層配線材料からなる配線パターンの作製を行った。下層および上層配線材料の成膜には自動搬送芝浦スパッタ装置を用いた。層間絶縁膜の成膜にはTEOS PECVD装置を用いた。レジストパターニングには、コータデベロッパとi線ステッパを用いた。レジストパターンをエッチングマスクとした膜加工には、ICP-RIE#2を用いた。
結果と考察 / Results and Discussion
作製した配線パターンの一部の光学顕微鏡画像を図１に示す。3000 ppi以上のバックプレーンに必要な微細な配線パターンが形成できた。測定用のコンタクトパッド部で配線間の抵抗を測定したところ、コンタクトホールを介した導通、隣接配線間の絶縁を確認できた。 これらの評価結果をもとに、3994 ppiの高精細発光素子の評価用パッシブ駆動用バックプレーン基板を設計・作製し、R、G、BのEL発光を確認した。特性改善に向けて、引き続き、東北大学マイクロシステム融合研究開発センター内設備を利用して新規超高精細自発光素子試作に取り組む予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 作製した配線パターンの光学顕微鏡画像 （黄色：下層配線、緑色：上層配線）
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
NEDO「次世代高効率ディスプレイの材料およびプロセス開発」
※利用した主な設備のID番号（追記分）
・TU-206
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
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Kazuya Tsujino, 25‐2: Invited Paper: Ultra‐High‐Resolution NanoLED Panel for AR/VR by UV Patterning Technology, SID Symposium Digest of Technical Papers, 53, 291-294(2022).
DOI: 10.1002/sdtp.15476
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- Kazuya Tsujino, Tomohiro Kosaka, Manabu Daio, Yuuki Ootsuka, Kunihiko Orita, Tomoko Teranishi, Takeshi Ishida, Kiyoshi Minoura, “Ultra-High-Resolution nanoLED Panel for AR/VR by UV Patterning Technology”, SID2022, 令和４年５月１１日
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件