【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.24】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22TU0054
利用課題名 / Title
半導体ナノ構造の作成 / Semiconductor Nanostructure Fabrication
利用した実施機関 / Support Institute
東北大学 / Tohoku Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed
キーワード / Keywords
EB,量子効果/ Quantum effect,リソグラフィ/Lithography,膜加工・エッチング/Film processing and Etching,トポロジカル量子物質/ Topological quantum matter,量子コンピューター/ Quantum computer,スピン制御/ Spin control,スピントロニクス/ Spintronics,フォトニクス/ Photonics,量子効果/ Quantum effect,量子効果デバイス/ Quantum effect device
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
遊佐 剛
所属名 / Affiliation
東北大学大学院理学研究科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ムーア ジョン ニコラス, 佐藤健
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
TU-001：エッチングチャンバー
TU-058：マスクレスアライナ
TU-002：有機ドラフトチャンバー
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
東北大学ナノテク融合技術支援センターにおいて、マスクレスアライナ（HIMT MLA150）装置を用い、半導体プロセス用のフォトマスクを作成した。
実験 / Experimental
３インチクロムマスクブランクス（AZ1350レジスト塗布済み）にマスクレスアライナ（HIMT MLA150）装置を用いてパターンを描画した。レジストの現像はMICROPOSIT DEVELOPERを用いて行い、その後、クロムエッチング液、過酸化水素、硫酸でエッチング処理を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
Fig. 1にフォトマクスの写真を示す。半導体ナノ構造の比較検証を行うため、形状やサイズの違う様々なパターンが含まれている良好なフォトマスクを作成するすることができた。このフォトマスクを用いて、半導体プロセスを行っていく予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 フォトマスクの光学顕微鏡写真
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
・科研費学術変革領域A(極限宇宙) 「量子ホール系による量子宇宙の実験」
・共同研究者：国立研究開発法人物質・材料研究機構 間野高明様、ドルトムント大 Sergiu Anghel様
・高柳匡様(京都大学基礎物理学研究所)、藤澤利正様（東京工業大学）、堀田昌寛様(東北大学物理)に感謝します。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
-
S. Anghel, Spin helices in GaAs quantum wells: Interplay of electron density, spin diffusion, and spin lifetime, Journal of Applied Physics, 132, (2022).
DOI: 10.1063/5.0097426
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 遊佐剛 応用物理学会秋季学術講演会 時間・空間分解分光による量子ホール系の探索 2022/9/22
- 遊佐剛、堀田昌寛 応用物理92, 2 112 (2023).
- A. Kamiyama, M. Matsuura, J. N. Moore, T. Mano, N. Shibata, G. Yusa, arXiv, 2212.05507
- S. Anghel, A. V. Poshakinskiy, K. Schiller, G. Yusa, T. Mano, T. Noda, and M. Betz, J. Appl. Phys. 132, 054301
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件