利用報告書 / User's Reports


【公開日:2023.07.28】【最終更新日:2023.04.17】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22TU0012

利用課題名 / Title

新カット水晶Lamb波レゾネータの開発 / Development of new-cut crystal lamb-wave resonator

利用した実施機関 / Support Institute

東北大学 / Tohoku Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

膜加工・エッチング/Film processing and Etching,高周波デバイス


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

丸山 春樹

所属名 / Affiliation

リバーエレテック株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

山形佑亮

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

戸津健太郎, 森山雅昭, 庄子征希, 菊田利行

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TU-215:イオンミリング装置
TU-058:マスクレスアライナ
TU-054:ホットプレート
TU-060:現像ドラフト


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

広い温度範囲でATカット水晶振動子より周波数精度の良いKoT(Kerfed orthogonal plate waves for zero Temperature coefficient)カットの板波を利用したOPAW(Orthogonal Plate Acoustic Wave)振動子の開発を行っている。1GHzの周波数では、L/S(Line and Space)2.0 µm、ライン1.0 µm、スペース1.0 µm程度の間隔で、櫛形電極(IDT: Interdigital Transducer)を形成する必要があり、東北大学ナノテク融合技術支援センターの装置を利用して微細加工プロセスの検討を行った。

実験 / Experimental

【利用した主な装置】 マスクレスアライナ、ホットプレート、現像ドラフト、イオンミリング装置
【実験方法】
1.  外形φ4インチ、厚さt0.1 mmの水晶ウェハに、Cr 100 Å, Au 200 Åを自社で成膜し、レジストTSMR(V90 27CP)をスピンコートした。
2. メタルウェハを介して、水晶ウェハをマスクレスアライナに吸着固定、波長375nm、120 mJで露光した。
3. 100 ℃、90秒でPEB(Post Exposed Bake)を行った。
4. 90秒間、NMD-W で現像した。
5. イオンミリングでAuとCrのエッチングをTable 1の条件で行った。
6. レジストは自社で、剥離液106を用いたウェット工程で剥離した。

結果と考察 / Results and Discussion

マスクレスアライナは露光前にベストフォーカスを確認し、イオンミリングでは電流電圧を落とすことで、Fig. 1のような約1.0 µmのL/S のIDT電極を形成することが可能となった。ただし、マスクレスアライナの装置性能ギリギリのところで使っているため、来年度は解像能力の高いi線ステッパーの検討を予定している。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Table 1 Condition of ion milling.



Fig. 1 Photo of IDT electrode (Design: Line=1.0 m, Space=1.0 m).


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

・技術支援して頂きました、東北大学、戸津先生、森山先生、庄子研究員、菊田研究員に感謝します。
・その他ARIM利用機関:東京大学(22UT1149)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:1件

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