利用報告書 / User's Reports


【公開日:2023.08.01】【最終更新日:2023.05.15】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22RO0005

利用課題名 / Title

太陽電池の製作と基礎実験

利用した実施機関 / Support Institute

広島大学 / Hiroshima Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用(ARIM事業参画者以外)/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

成膜・膜堆積、熱処理、ドーピング、電気計測,太陽電池/ Solar cell


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

佐々木 康子

所属名 / Affiliation

広島大学附属高校

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

山田真司

利用形態 / Support Type

(主 / Main)技術代行/Technology Substitution(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

RO-221:酸化炉
RO-226:燐拡散炉


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

高校2年生に対して、「先端研究実習」というカリキュラムを実施している。最新技術の一端を知ることを目的としている。その一つとして太陽電池について学ぶプログラムがあり、広島大学ナノデバイス研究所で作製した太陽電池ウェーハを使い、電極形成を生徒各自で行い、動作確認・測定・評価をおこなった。クリーンルーム内の設備と作業を見学し、にて、ププロロジェクタを使ったリソグラフィーで、集合写真の露光・現像を見学も体験した。

実験 / Experimental

【利用した主な装置】酸化炉、リン拡散炉【実験方法】 広島大学ナノデバイスに作製依頼した太陽電池ウェーハに、生徒各自が電極形状を工夫し太陽電池を作製した。作製依頼したウェーハは、2インチのP型基板に、鏡面側のみリン拡散によりN型にドープしたものである。電極作製は、InSn半田での半田付け練習を行った後に、太陽電池ウェーハのに、裏面側にベタの電極を作製し、受光面となる表面には効率を考えながら各自電極形状を工夫して120枚作製した。  動作確認は、窓辺の直射日光を光源として、低電圧用DCモータの回転で確認した。発電性能の出力特性(I-V特性)の測定は、明るさを一定とした白熱電球で、電流計と電圧計を使い、負荷抵抗のダイヤル可変抵抗器を変化させて測定した。また、自動測定器による測定も行った。

結果と考察 / Results and Discussion

変換効率は、7.0~10.4%であった。12枚のうち11枚が7.5%以上を記録し、9.0%以上は6枚あった。 Fig. 1 ~ Fig. 3に、電極形成を生徒各自で行った太陽電池ウェーハの写真と発電性能の出力特性(IV特性)の測定結果の一部を示す。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Fig.1. max,η=10.41% solar cell & its I-V curve



Fig.2. min.Rs=1.769Ω solar cell & its I-V curve



Fig.3. max. Isc=29.04mA solar cell & its I-V curve 変換効率 = 8.3%  


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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