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燐拡散炉

設備ID	RO-226
分類	熱処理・ドーピング > 拡散
装置名称	燐拡散炉 (Phosphorus diffusion furnaces)
設置機関	広島大学
設置場所	CR西棟１F
メーカー名	神港精機 (SHINKO SEIKI Co., LTD)
型番
キーワード	対応wafer：２inch、cut wafer
仕様・特徴	最高使用温度900℃