ハブ・スポーク機関からのお知らせ

「応用物理学会 次世代リソグラフィ技術 研究会(NGLワークショップ2023)」(2023年7月6日~7日)にてARIM事業を紹介

日時

2023年7月6日(木)~7日(金)

場所

東京工業大学 蔵前会館

主催

応用物理学会 次世代リソグラフィ技術 研究会(分科会)

参加費

学生:4,000円、一般:20,000円

参加申し込み

Webフォーム https://eventpay.jp/event_info/?shop_code=2826022165321700&EventCode=3125066639

概要

NGLワークショップは、リソグラフィに関係するデバイス、装置、プロセス、材料等、リソグラフィに関する幅広い分野の研究者、エンジニアが一堂に会するワークショップです。
マテリアル先端リサーチインフラ(ARIM)ではポスター展示を行います。(展示説明は、6日 17:00-19:00, ポスターNo. P24)
ARIM事業での共用施設利用の概要について紹介をします。機器・設備の利用に関するご相談も受け付けておりますので、どうぞお気軽にお声がけください。

プログラム

【基調講演】
”先端ロジック半導体の技術動向と将来展望”
  平本 俊郎 氏(東京大学)

”EUV lithogr aphy transition from 0.33 to 0.55 NA Challenges and Opportunities”
  Pieter Vanelderen 氏 (imec)

”3D パッケージ技術”
  菅沼 克昭 氏(大阪大学)

【技術セッション】
7/6 光リソグラフィ&アドバンストパターニング、レジスト 材料、ポスターセッション
7/7 ナノインプリント、EB・計測・マスク技術、EUVL

お問い合わせ

事務局:
TEL:090(5493)1147
E-mail: ngl(at)jsap.or.jp ※(at)を@に書き換えてください。

ホームページ
[URL] https://annex.jsap.or.jp/NGL/
最新情報は、イベントWebサイトでご確認ください。

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  • 【更新日】2023/06/30
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