データセット

ALD成膜基礎データ(2022年)

データセットID

a6dce693-799c-4256-acc1-ec8be3c26d7d

ファイルサイズ

6810235

データ数

9

課題番号

JPMXP1222AT0458

サブタイトル

AT-102_原子層堆積装置_3〔FlexAL〕

エンバーゴ期間終了日

2023-09-30 03:00

開設日時

2023-11-29 08:06

データセット

申請者:清水三聡 所属:産業技術総合研究所
申請者:有本 所属:産業技術総合研究所

装置名

原子層堆積装置_3〔FlexAL〕

タグ

要約

産業技術総合研究所_共用施設_ナノプロセシング施設_原子層堆積装置_3[FlexAL]は、8種類の反応ガス及び組成分析用in-situ XPS及び膜厚計測用 in-situ 分光エリプソを装備した試料サイズ:4インチφの原子層堆積装置です。今回2022年度のスタッフデータとしてRu表面のSiN材料吸着過程、Al2O3表面のSiO2材料吸着過程及びCu表面酸化膜表面処理、水素プラズマによるRu表面の酸化膜除去表面処理などのin-situ XPS分析評価データ、又AlN/Si単層膜の温度依存性詳細レシピデータ及びその評価データ(GPC、XPS組成、D-SIMS成分分析)を紹介します。