AT-102_原子層堆積装置_3〔FlexAL〕
課題名
ALD成膜基礎データ(2022年)
課題番号
JPMXP1222AT0458
データセット登録者
清水三聡(産業技術総合研究所)
有本(産業技術総合研究所)
エンバーゴ期間終了日
2023-09-30
データセットID
a6dce693-799c-4256-acc1-ec8be3c26d7d
ファイルサイズ
6.49MB
データ数
9
装置名
原子層堆積装置_3〔FlexAL〕
要約
産業技術総合研究所_共用施設_ナノプロセシング施設_原子層堆積装置_3[FlexAL]は、8種類の反応ガス及び組成分析用in-situ XPS及び膜厚計測用 in-situ 分光エリプソを装備した試料サイズ:4インチφの原子層堆積装置です。今回2022年度のスタッフデータとしてRu表面のSiN材料吸着過程、Al2O3表面のSiO2材料吸着過程及びCu表面酸化膜表面処理、水素プラズマによるRu表面の酸化膜除去表面処理などのin-situ XPS分析評価データ、又AlN/Si単層膜の温度依存性詳細レシピデータ及びその評価データ(GPC、XPS組成、D-SIMS成分分析)を紹介します。
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