データセット

データセット名:オックスフォードインスツル社製ALD装置〔FlexAL〕を用いたALD成膜レシピとその膜特性

課題名:ALD成膜基礎データ(2022年)

データセット登録者(所属機関):有本(産業技術総合研究所)

課題番号:
JPMXP1222AT0458
実施機関:
産業技術総合研究所

要約

産業技術総合研究所_共用施設_ナノプロセシング施設_原子層堆積装置_3[FlexAL]は、8種類の反応ガス及び組成分析用in-situ XPS及び膜厚計測用 in-situ 分光エリプソを装備した試料サイズ:4インチφの原子層堆積装置です。今回2022年度のスタッフデータとしてRu表面のSiN材料吸着過程、Al2O3表面のSiO2材料吸着過程及びCu表面酸化膜表面処理、水素プラズマによるRu表面の酸化膜除去表面処理などのin-situ XPS分析評価データ、又AlN/Si単層膜の温度依存性詳細レシピデータ及びその評価データ(GPC、XPS組成、D-SIMS成分分析)を紹介します。
3DMAS, SAM24 を用いたSiN, SiO2膜の成膜事例が記載されています。

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キーワード・タグ

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データメトリックス

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データインデックス

登録日:
2024.10.28
エンバーゴ解除日:
2023.09.30
データセットID:
a6dce693-799c-4256-acc1-ec8be3c26d7d
データタイル数:
9
ファイル数:
102
ファイルサイズ:
6MB

成果発表・成果利用