産業技術総合研究所_共用施設_ナノプロセシング施設_原子層堆積装置_1[FlexAL]は、試料サイズ:8インチφ、材料ポート:8ポート、及び膜厚計測用 in-situ 分光エリプソを装備した原子層堆積装置です。今回2022年度のスタッフデータとしてSiO2/SiN/Si積層膜、HfO2/Si単層膜などの詳細レシピデータ及びその評価データ（GPC、結晶性等）、又成膜前のSi表面処理（BHF、HF）の終端評価データ（FT-IR）を紹介します。