データセット

ALD成膜基礎データ(2022年)

データセットID

f7c525c4-22f0-4311-9888-e66f6aab0f0d

ファイルサイズ

1413308

データ数

6

課題番号

JPMXP1222AT0458

サブタイトル

AT-031_原子層堆積装置_1[FlexAL]

エンバーゴ期間終了日

2023-09-30 03:00

開設日時

2023-11-29 08:04

データセット

申請者:清水三聡 所属:産業技術総合研究所
申請者:有本 所属:産業技術総合研究所

装置名

原子層堆積装置_1[FlexAL]

タグ

要約

産業技術総合研究所_共用施設_ナノプロセシング施設_原子層堆積装置_1[FlexAL]は、試料サイズ:8インチφ、材料ポート:8ポート、及び膜厚計測用 in-situ 分光エリプソを装備した原子層堆積装置です。今回2022年度のスタッフデータとしてSiO2/SiN/Si積層膜、HfO2/Si単層膜などの詳細レシピデータ及びその評価データ(GPC、結晶性等)、又成膜前のSi表面処理(BHF、HF)の終端評価データ(FT-IR)を紹介します。