データセット名：オックスフォードインスツル社製ALD装置〔FlexAL〕を用いたALD成膜レシピとその膜特性
課題名：ALD成膜基礎データ(2022年)
データセット登録者（所属機関）：有本（産業技術総合研究所）
- 課題番号：
- JPMXP1222AT0458
- 実施機関：
- 産業技術総合研究所
要約
産業技術総合研究所_共用施設_ナノプロセシング施設_原子層堆積装置_1[FlexAL]は、試料サイズ:8インチφ、材料ポート:8ポート、及び膜厚計測用 in-situ 分光エリプソを装備した原子層堆積装置です。今回2022年度のスタッフデータとしてSiO2/SiN/Si積層膜、HfO2/Si単層膜などの詳細レシピデータ及びその評価データ（GPC、結晶性等）、又成膜前のSi表面処理（BHF、HF）の終端評価データ（FT-IR）を紹介します。
3DMAS, DEZn, TMA, TEMAHf を用いた SiN, SiO2, ZnO, Al2O3, HfO2 膜の成膜事例が記載されています。
キーワード・タグ
- 重要技術領域（主）：
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データメトリックス
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データインデックス
- 登録日：
- 2024.10.28
- エンバーゴ解除日：
- 2023.09.30
- データセットID：
- f7c525c4-22f0-4311-9888-e66f6aab0f0d
- データタイル数：
- 10
- ファイル数：
- 58
- ファイルサイズ：
- 2.84MB