【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.29】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22NU0207
利用課題名 / Title
光学素子の作成
利用した実施機関 / Support Institute
名古屋大学 / Nagoya Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
膜加工・エッチング/Film processing and Etching,ナノフォトニクスデバイス/ Nanophotonics device
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
澤野 亮介
所属名 / Affiliation
ソニーグローバルマニュファクチャリング＆オペレーションズ株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
フォトリソグラフィにより、石英基板上へアレイ状にレンズ形成を行ったものに対して、名古屋大学の微細加工プラットフォーム設備を利用して、石英基板へのレンズ形状の転写を行った。
実験 / Experimental
フォトリソグラフィの条件によりレンズの高さの異なるサンプルを数種類作製し、レジストをエッチングした後の石英基板上へ転写されたレンズ高さの結果から、レジストとして必要な高さを導いた。
結果と考察 / Results and Discussion
同一レジストで作製したレンズの高さに対して、エッチング後の石英のレンズ高さは特定の係数をを掛けた結果となることが分かった。
その結果より、目的の石英でのレンズ高さを実現するレジストでのレンズ高さを求めることができた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件