【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22NU0045
利用課題名 / Title
電子線エネルギー損失分光法へのベイズ超解像応用の検討
利用した実施機関 / Support Institute
名古屋大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
EELS, 超解像, ベイズ推定,電子顕微鏡/Electron microscopy,電子分光,熱電材料/ Thermoelectric material,電極材料/ Electrode material,パワーエレクトロニクス/ Power electronics
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
原田 俊太
所属名 / Affiliation
名古屋大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
山本悠太
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
NU-102：高分解能電子状態計測走査透過型電子顕微鏡システム
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
これまでの我々の研究で、ラマン分光データにベイズ超解像を応用することによって、測定データの解像度を向上させることが可能であることが明らかとなっている。本課題では、電子線エネルギー損失分光法（EELS）にベイズ超解像を応用するために、ルチル型二酸化チタンのEELSデータの取得を行い、ベイズ超解像の応用について検討を行った。
実験 / Experimental
ルチル型二酸化チタン単結晶から透過電子顕微鏡試料を収束イオンビーム装置により作製した。得られた試料に対して、EELS測定を行った。Dual modeでEELS測定を行い、測定範囲は-20~184.8eV、390~584.8eVとし、0.1eV/chで225回の測定を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
Fig.1に測定した225個のデータのZero-lossピークのエネルギーをプロットしたものを示す。Zero-lossピークのエネルギーは-0.1から0.5eVの範囲で分布しておりベイズ超解像のデータとして必要となる、1ch以上のズレを有していることが分かった。また、今回の結果から、0.5eV/chでデータ取得を行っても、超解像が可能であることが明らかとなった。Fig. 2に0.01eV/chのデータに超解像を行った結果を示す。得られた結果は単純に積算したデータよりもピークの形状をよく示しており、EELSデータにベイズ超解像を応用することにより、EELSデータの解析を高精度化することが可能であることが示唆された。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 Distribution of maximum energy for the zero-loss peak.
Fig. 2 Results of Bayesian super-resolution.
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件