【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22NU0009
利用課題名 / Title
ナノ酸化物デバイスの断面観察
利用した実施機関 / Support Institute
名古屋大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
分析,形状・形態観察,電子顕微鏡/Electron microscopy,メソポーラス材料/ Mesoporous material,ナノ粒子/ Nanoparticles
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
高橋 竜太
所属名 / Affiliation
日本大学工学部電気電子工学科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
山本剛久
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
NU-102：高分解能電子状態計測走査透過型電子顕微鏡システム
NU-106：試料作製装置群
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
エピタキシャル薄膜の断面構造を原子レベルで分析を行うため、名古屋大学の設備を利用して断面TEM観察、STEM観察を行った。
実験 / Experimental
薄膜試料を集束イオンビーム加工装置（ETHOS NX5000）で薄片化し、HAADF-STEM（ARM-200FC）を用いて透過像を撮影した。
結果と考察 / Results and Discussion
Fig.1にSrTiO3 (001)基板上のY2O3 薄膜のTEM像を示す。ヘリウムガスを混合した雰囲気で堆積することによりPLD成長時のプルームのエネルギーが低減し、欠陥形成が抑制することが明らかになった。その結果、蛍光特性も改善することも判明した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 (a,b) SrTiO3(001)基板上のY2O3薄膜のTEMイメージ (c,d) ディフラクションパターン(a,c)は酸素雰囲気中、(b,d)はヘリウムバッファーガス雰囲気中で堆積した薄膜試料
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
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Shizuka Suzuki, Effect of He Buffer Gas on Pulsed Nd:YAG Laser Deposition of EuxY2–xO3 Phosphor Thin Films, ACS Applied Electronic Materials, 4, 4419-4426(2022).
DOI: doi.org/10.1021/acsaelm.2c00691
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 高橋 竜太,鈴木静華,徳永智春,山本剛久,Lippmaa Mikk, "PLD による Y2O3薄膜成長における He バッファーガスの効果", 2023年応⽤物理学会春季講演会(上智大学四谷キャンパス), 令和５年3月15日(10:45～プログラム)
- 鈴木静華,太宰卓朗,徳永 智春,山本 剛久,加藤隆二, 高橋竜太, "Tb:Y2O3薄膜の蛍光特性の He バッファーガスの効果", 2023年応⽤物理学会春季講演会(上智大学四谷キャンパス), 令和５年3月15日(11:00～プログラム)
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件