【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.16】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22NU0009

利用課題名 / Title

ナノ酸化物デバイスの断面観察

利用した実施機関 / Support Institute

名古屋大学 / Nagoya Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

分析,形状・形態観察,電子顕微鏡/Electron microscopy,メソポーラス材料/ Mesoporous material,ナノ粒子/ Nanoparticles

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

高橋 竜太

所属名 / Affiliation

日本大学工学部電気電子工学科

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

山本剛久

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NU-102：高分解能電子状態計測走査透過型電子顕微鏡システム
NU-106：試料作製装置群

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

エピタキシャル薄膜の断面構造を原子レベルで分析を行うため、名古屋大学の設備を利用して断面TEM観察、STEM観察を行った。

実験 / Experimental

薄膜試料を集束イオンビーム加工装置（ETHOS NX5000）で薄片化し、HAADF-STEM（ARM-200FC）を用いて透過像を撮影した。

結果と考察 / Results and Discussion

Fig.1にSrTiO₃ (001)基板上のY₂O₃ 薄膜のTEM像を示す。ヘリウムガスを混合した雰囲気で堆積することによりPLD成長時のプルームのエネルギーが低減し、欠陥形成が抑制することが明らかになった。その結果、蛍光特性も改善することも判明した。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

Fig. 1 (a,b) SrTiO₃(001)基板上のY₂O₃薄膜のTEMイメージ (c,d) ディフラクションパターン(a,c)は酸素雰囲気中、(b,d)はヘリウムバッファーガス雰囲気中で堆積した薄膜試料

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

1. Shizuka Suzuki, Effect of He Buffer Gas on Pulsed Nd:YAG Laser Deposition of Eu_xY_2–xO₃ Phosphor Thin Films, ACS Applied Electronic Materials, 4, 4419-4426(2022).
   DOI: doi.org/10.1021/acsaelm.2c00691
   

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

1. 高橋 竜太,鈴木静華,徳永智春,山本剛久,Lippmaa Mikk, "PLD による Y2O3薄膜成長における He バッファーガスの効果", 2023年応⽤物理学会春季講演会(上智大学四谷キャンパス), 令和５年3月15日(10:45～プログラム)
2. 鈴木静華,太宰卓朗,徳永 智春,山本 剛久,加藤隆二, 高橋竜太, "Tb:Y2O3薄膜の蛍光特性の He バッファーガスの効果", 2023年応⽤物理学会春季講演会(上智大学四谷キャンパス), 令和５年3月15日(11:00～プログラム)

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件