【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.06.11】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23TT0046

利用課題名 / Title

半導体プロセス実習・講演会の受講

利用した実施機関 / Support Institute

豊田工業大学 / Toyota Tech.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

実習・講習会、サーモパイル、MEMS,センサ/ Sensor,光学顕微鏡/ Optical microscope,光リソグラフィ/ Photolithgraphy

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

吉田 龍生

所属名 / Affiliation

英興株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TT-001：スパッタ（金属、絶縁体）蒸着装置
TT-006：マスクアライナ装置
TT-008：洗浄ドラフト一式
TT-011：Deep Reactive Ion Etching装置（Boschプロセス）
TT-016：エリプソメーター

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

2022年度に引き続き小規模にて3月8日に開催された（定員を昨年の5名から10名に増やし、10名で実施）。実習後の講義が、豊田工業大学2教授からあった。講義1：「熱電対を応用したMEMSセンサの基礎と応用」（佐々木実）は、実習で製作する熱電対関係にて、原理と応用例が説明された。講義2：「MOSトランジスタ高性能化技術」（沼田敏典）は、LSI主要素子であるMOSトランジスタの基本的な構造・動作・製法、NANDフラッシュメモリのメモリセルの基礎について説明された。

実験 / Experimental

限られた時間で一人１枚ずつ3”ガラス基板にて試作するため、下地クロムのパターン形成とアルミ全面蒸着までを予め用意してあった基板に、パターン転写しアルミエッチングすることでサーモパイル素子を形成した。素子製作の成膜、リソグラフィ、ウェットエッチングの一連のプロセスを実習した。合わせて、酸化・拡散、ドライエッチング、等の装置について学んだ。また、製作した素子の特性を測定した。

結果と考察 / Results and Discussion

Fig. 1はパターニング転写後に現像している様子である。位置合わせマークは目視でも分かる程度に大きいデザインである。この後、アルミエッチング、レジスト除去を行った。Fig. 2は製作したサーモパイルの特性を測定した結果である。冷節点をヒートシンクである鉄板上になるよう配置し、下地から浮いている中心部の温接点領域を加熱した。サーモパイルを一度に製作したが、1組分の熱起電力の値である。ばらつきはあるが、温接点の温度に比例した直線状の特性である。傾きは14.8～21.5μV/Kとなった。これがSeebeck係数に当たり、理論値19.0μV/Kに近い値である。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

Fig. 1 Photo of practice for developing.

Fig. 2 Thermoelectric force as the function of temperature.

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件