洗浄ドラフト一式
設備ID | TT-008 |
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分類 | 表面処理・洗浄 > ウェット処理 |
装置名称 | 洗浄ドラフト一式 (Clean draft chambers) |
設置機関 | 豊田工業大学 |
設置場所 | クリーンルーム |
メーカー名 | 東朋テクノロジー (Toho Technology Co.) |
型番 | 特注 |
キーワード | 洗浄やウェットエッチングに利用。例えば (1)アンモニア過水(APM)洗浄 (2)塩酸過水(HPM)洗浄 (3)希フッ酸(DHF)洗浄 (4)硫酸過水(SPM)洗浄 |
仕様・特徴 | シリコン専用および化合物半導体専用のドラフト群 小型~太陽電池156mm角基板等 |