【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.31】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23MS5003
利用課題名 / Title
リソグラフィによる微細構造の製作および評価
利用した実施機関 / Support Institute
自然科学研究機構 分子科学研究所 / IMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis（副 / Sub）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
電子ビーム描画装置、リフトオフ法、円柱状微細構造
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
高田 紀子
所属名 / Affiliation
分子科学研究所 装置開発室
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
木村 幸代,石川 晶子
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
研究者からの依頼対応として、電子ビーム描画装置と専用レジストを用いて微細構造を製作している。
実験 / Experimental
作業工程を図1に示す。EB描画によりレジストパターンを製作後、蒸着により金を成膜し、最後にレジストを除去することで金のパターンを得る「リフトオフ法」で行った。
結果と考察 / Results and Discussion
20 mm・厚み 0.5 mmの合成石英基板を用い、図2のSEM像に示すような金の円柱状微細構造を、 □ 200 μm 範囲全体に製作した。微細構造底面の直径は、436nmが目標のところ、例として直径 433 nm であり、厚みは約 100 nm であることが確認された。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1：作業工程の模式図
図2：製作サンプルの概要とSEM像
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件