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電子ビーム描画装置

設備ID	MS-103
分類	リソグラフィ > 電子線描画（EB）
装置名称	電子ビーム描画装置 (Electron Beam Lithgraphy System)
設置機関	自然科学研究機構　　分子科学研究所
設置場所	分子研明大寺地区
メーカー名	エリオニクス (Elionix Inc.)
型番	ELS-G100
キーワード
仕様・特徴	最大加速電圧100kV, 最小ビーム径1.8nm, 最小描画線幅6nm