【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.04.15】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23KT1327
利用課題名 / Title
ナノインプリント転写評価
利用した実施機関 / Support Institute
京都大学 / Kyoto Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
ナノインプリント, EVG,エリプソメトリ/ Ellipsometry,3D積層技術/ 3D lamination technology
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
昆野 健理
所属名 / Affiliation
東京応化工業株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
千坂博樹
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
岸村眞治
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
KT-108：レジスト塗布装置
KT-311：分光エリプソメーター
KT-239：UVナノインプリント装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
UV硬化型ナノインプリント材料の開発を行っており、インプリント装置の転写時の加圧方式の違いによるパターン転写性への影響評価を行う。具体的には、EVG／EVG6200TBN、及び、OBDUCAT／Eitre3の評価を予定している。
実験 / Experimental
①レジスト塗布装置で材料をスピンコート塗布
②ホットプレートでPrebakeし、溶剤を揮発させる：4inch Siウエハ上に、密着増強剤EVGPRIM Kを処理
③UVナノインプリント装置で転写性評価を行う：NIL材料：EVGNIL UV/A2(装置標準品)を3000rpm-50sで塗布し、Prebake120℃-1minを行った。UVナノインプリント条件：転写ロールスピード 4mm/s、転写圧 1000mbar、Exposure 3J/cm2
結果と考察 / Results and Discussion
図1にKT-239：UVナノインプリント装置を用いた転写後のSEM写真を示す。寸法測定を行ったところパターン高さ97nm、パターンライン幅77nm、RLT:284nmで、あった。マスターモールドの寸法に対して±5%以内で装置標準品のナノインプリント材料:EVGNIL UV/A2が転写できていることを確認した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１. EVGNIL UV/A2転写結果
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件