【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.04.19】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23NI1001
利用課題名 / Title
非プロトン性溶媒下における金属電極に対するガス（O2、CO2、N2）吸着挙動の解析
利用した実施機関 / Support Institute
名古屋工業大学 / Nagoya Tech.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies（副 / Sub）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions
キーワード / Keywords
表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control,赤外・可視・紫外分光/ Infrared/visible/ultraviolet spectroscopy,赤外・可視・紫外分光/ Infrared/visible/ultraviolet spectroscopy,資源代替技術/ Resource alternative technology,分離・精製技術/ Separation/purification technology,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control,赤外・可視・紫外分光/ Infrared/visible/ultraviolet spectroscopy,分離・精製技術/ Separation/purification technology
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
飯島 剛
所属名 / Affiliation
㈱デンソー
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術相談/Technical Consultation
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
非プロトン性溶媒中での電解反応において、O2、CO2、N2などのガスの挙動ははっきりしていない。そこで本装置を用いたその場分光分析を検討した。
実験 / Experimental
表面増強効果のあるAu、Ptなどの電極を作製し、電解液を含む系において電解反応を行いつつ、その場分光測定を実施した。
結果と考察 / Results and Discussion
本検討において各ガス種が電位掃引に応じて電極に吸脱着する様子をとらえることに成功した。特にCO2の吸着挙動をはっきりととらえることができ、負電位においてCO2単分子状態また二量化した状態で捕捉されていることを観察した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
特になし。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件