【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.04.19】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22MS3003
利用課題名 / Title
界面選択的な振動分光を実現するナノ構造電極基板の開発
利用した実施機関 / Support Institute
自然科学研究機構 分子科学研究所 / IMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis（副 / Sub）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies（副 / Sub）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials
キーワード / Keywords
電子線リソグラフィー, 周期ナノ構造, 表面増強赤外吸収分光法
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
本林 健太
所属名 / Affiliation
名古屋工業大学大学院工学研究科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
太田 弦志,小林 明斗
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
近藤 聖彦,石川 晶子
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
本研究課題では、電気化学環境下における電極／電解液界面の選択的な分光観測を実現するための、周期的なナノ構造パターンを有する電極基板の開発を目的とした。界面が観測可能な手法の一つ、表面増強赤外吸収分光法（SEIRAS）の定量性・再現性を高めるため、従来型のランダムな金属ナノ構造に代えて、良く規定されたナノ構造を電子線リソグラフィーにより作製した。
実験 / Experimental
レジストを均一に塗布したSiウェハーに対して、電子線リソグラフィーを用いてnmスケールのパターニングを施した。ウェットプロセスにより余分なレジストを除去した上で金を蒸着し、残りのレジストをウェットプロセスにて除去することで、パターンに沿った金のナノ構造の作製を試みた。
結果と考察 / Results and Discussion
nmスケールの立方体状の金クラスターが周期的に並んだ構造を作製することに成功した。この構造を、申請者らの研究室にて実際にSEIRAS測定に用いたところ、確かに界面における赤外吸収が増強されることが確認できた。今後、サイズやパターンを変えることで、高い増強度と電気化学応用性を両立するナノ構造の作製を目指したい。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件