【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.06.29】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23UT1219
利用課題名 / Title
宇宙塵形成過程の実験的解明
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
宇宙、分子雲、触針式段差計
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
瀧川 晶
所属名 / Affiliation
東京大学理学系研究科地球惑星科学専攻
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
植田遥大
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
分子雲でのダスト形成を模擬したMBE装置での成膜試料の厚み測定をおこなった．
実験 / Experimental
分子雲でのダスト形成を模擬したMBE装置での成膜試料の厚み測定をおこなった．
結果と考察 / Results and Discussion
MBE装置を用いて，SiO2, MgOをそれぞれ50, 100, 150 nm程度成膜した試料の厚さ測定を触針段差計を用いておこなった．MBE装置の膜厚計と実際の膜厚の値を比較し，MBE装置の校正を実施した．得られた結果を用いて，膜厚計のtooling factorの値を決定した．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件