【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.06.22】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23NU0009
利用課題名 / Title
多孔質ポリイミドフィルムの三次元構造解析
利用した実施機関 / Support Institute
名古屋大学 / Nagoya Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-
【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials(副 / Sub)マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials
キーワード / Keywords
膜加工・エッチング,形状・形態観察,電子顕微鏡/ Electronic microscope,メソポーラス材料/ Mesoporous material,ハイエントロピー材料/ High entropy material
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)
秋山 智
所属名 / Affiliation
東京応化工業株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
荒井 重勇,中尾 知代,依田 香保留
利用形態 / Support Type
(主 / Main)技術代行/Technology Substitution(副 / Sub),技術相談/Technical Consultation
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
NU-105:バイオ/無機材料用高速FIB-SEMシステム
NU-104:直交型高速加工観察分析装置
報告書データ / Report
概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
多孔質ポリイミドフィルムの内部構造の情報取得のため、名古屋大学の設備を利用して断面加工を繰り返し、断面SEM画像を重ね合わせることで3D構築を行った。
実験 / Experimental
薄膜資料を収束イオンビーム装置(ETHOS, MI4000L)で加工条件を検討したのちに、観察分析装置(MI4000L)でSEM像を撮影した。続けてイオンビームの切削加工を繰り返すことで複数の断面画像を取得し、画像をつなぎ合わせることで3次元構築を行った。FIB加工条件(MI4000L)ビーム材質:SiO2ビーム電流値:117pA検出器:Lower
結果と考察 / Results and Discussion
Fig. 1-1~1-5にFIB加工後の断面SEM画像、Fig. 2に3次元構築像を示す。弊社膜特有の球状孔が密集した空孔構造を広いエリアで観察できた。一方で、断面加工時に膜中の樹脂部が融け、空孔が開裂もしくは埋没している箇所が散見された。Fig. 1, Fig. 2において、加工時の樹脂溶融による空孔の開裂部分を白色点線、空孔の埋没部分を黄色点線で示している。今後は、加工条件もしくは膜質を変更し、より鮮明な膜内部の構造情報の取得を目指す。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1-1 SEM断面画像①
Fig. 1-2 SEM断面画像②
Fig. 1-3 SEM断面画像③
Fig. 1-4 SEM断面画像④
Fig. 1-5 SEM断面画像⑤
Fig. 2 3D構築像
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)
本研究を遂行するにあたり、技術代行・技術補助をして頂きました、ARIM 名古屋大学 未来材料・システム研究所の荒井特任准教授と中尾技術支援員に深く感謝いたします。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件