【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.04.23】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23NU0237
利用課題名 / Title
シリコン異方性ウエットエッチングの全方位加工特性に関する研究
利用した実施機関 / Support Institute
名古屋大学 / Nagoya Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
シリコン，異方性，全方位，エッチング速度,センサ/ Sensor,高品質プロセス材料/技術/ High quality process materials/technique,蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation,膜加工・エッチング/ Film processing/etching
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
田中 浩
所属名 / Affiliation
愛知工業大学 工学部 機械学科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
シリコンアルカリ異方性ウエットエッチングのグリーンプロセス開発に向け，極低濃度のアルカリ水溶液を用いたエッチング加工特性を調査している．本研究では，試料としてシリコン半球を用いることで，シリコン単結晶のあらゆる結晶面での加工特性を把握することを目的とする．シリコン半球試料作成に対し，半球全面を一度熱酸化する必要があり，このために酸化・拡散炉（NU-219）の機器利用を行った．
実験 / Experimental
約２０ｍｍ半径の単結晶シリコン半球に，酸化・拡散炉に熱酸化膜を約１μｍ形成させた．
結果と考察 / Results and Discussion
酸化膜形成後，外観観察を行った．昨年度，２個同時に処理が行えることを確認したが，今回，酸素導入側の半球表面に白点が観察された．同時に入れたシリコンウェハ（縦置き）では観察されなかつたことから，半球の置き方などの影響で白点が生じた可能性があり，来年度その原因を把握したいと考える．
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件