【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.04.22】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23BA0046
利用課題名 / Title
ビームモニター用RBSターゲットの製作
利用した実施機関 / Support Institute
筑波大学 / Tsukuba Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
蒸着・成膜/ Vapor deposition/film formation
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
冨田 成夫
所属名 / Affiliation
筑波大学数理物質系
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
高速分子イオンの生成において，ビーム電流および，ビームの組成の確認は重要である。
本実験では金薄膜による後方ラザフォード散乱粒子を測定することにより，ビーム成分の特定，およびビーム電流の計測を行った。
実験 / Experimental
高配向性熱分解グラファイト（HOPG)上に金を蒸着したターゲットを作成し，これに筑波大学タンデトロン加速器から得られた高速分子ビームを照射し，後方散乱粒子のエネルギースペクトルを測定した。分子イオンの生成にはCsスパッタイオン源を用いた。
結果と考察 / Results and Discussion
グラファイトをスパッタして得られたm/q=13 amu および17 amuのイオンについて実験を行い，m/q=13のビームの成分を
後方散乱粒子エネルギースペクトルを分析することによって解析を行った。その結果，m/q=13は12CH+と13C+とで構成されており，その比率はI(12CH)/I(13C)=1.29，また，I(16OH+)/I(17O+)=12.9となっていることが確認できた。
この手法により，分子ビームの成分分析が可能であることが示された。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 矢野 祐一郎, 尾関 海太，南 健太，松田和真，石井聰，笹公和，冨田成夫，”高速異核分子イオンビームのRBSを用いた成分分析”，原子衝突学会第48回年会（東京工業大学大岡山キャンパス），令和5年11月25日（土）～26日（日）
- 尾関海太，矢野祐一郎, 平賀真瑠古，松田和真，石井聰，笹公和，冨田成夫，”0°電子分光用ビームカレントモニターの製作” ，原子衝突学会第48回年会（東京工業大学大岡山キャンパス），令和5年11月25日（土）～26日（日）
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件