利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.05.24】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23NM0146

利用課題名 / Title

鉱山跡地に自生するススキの重金属耐性機構の解明

利用した実施機関 / Support Institute

物質・材料研究機構 / NIMS

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

電子分光/ Electron spectroscopy,資源循環技術/ Resource circulation technology


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

山路 恵子

所属名 / Affiliation

筑波大学生命環境系

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

Xingyan Lu(盧星燕),松代 雄太

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

岩撫 暁生,西尾 満章,山口 仁志,林 百子,宮川 心

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NM-203:誘導結合プラズマ発光分析装置群


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

 鉱山跡地には様々な自生植物が確認されるが、中でもススキは重金属耐性を有することが本研究室の成果で明らかになっており、注目すべき植物である。近年の既往報告では、重金属耐性機構に関わる元素としてSiの重要性が指摘されている。イネ科植物であるススキは、高いSi蓄積能を有していると考えられるが、本研究室ではまだススキに含まれるSiの分析を実施していない。そこで本研究では、ススキの重金属耐性にSiが関与する機構を明らかにするために、ICP-OESによるSiの分析を行った。

実験 / Experimental

 本研究では室内接種試験と野外接種試験を実施した。室内接種試験では、内生菌Aの菌糸液をススキの根に接種した試験区をA菌接種区、水を接種した試験区をA菌Control区とした。野外接種試験においては、内生菌Pを包括したカプセルをススキの根に接種した試験区をP菌接種区、内生菌を包括しないカプセルを接種した試験区をP菌Control区とした。
 室内及び野外接種試験で栽培したススキは洗浄後各部位に分割し、乾燥した。その後、乾燥試料をHClとHFを混合した酸性溶液で抽出した。1晩振とうし、得られた抽出液は0.2 μm PTFEフィルターで濾過し、その抽出液に含まれるSiをICP-OES (Agilent 5800, Agilent Technologies, Santa Clara, USA) を用いて測定した。

結果と考察 / Results and Discussion

 室内接種試験において、A菌接種区とA菌Control区の間で、ススキの地上部及び根の含有Si濃度に有意な差は確認されなかったことから、内生菌Aがススキの含有Si濃度に影響を与える可能性は低いと考えられた。
 野外接種試験において、ススキの不定根のSi濃度はP菌接種区で有意に高かった。内生菌Pがススキの不定根の含有Si濃度に影響を与える可能性があると考えられた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

謝辞:機器利用にあたり、物質・材料研究機構 岩撫暁生様をはじめ支援員の皆様から多大なご支援を賜りましたことに謝意を表します。


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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