【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.04.11】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23NM0066
利用課題名 / Title
高効率紫外LEDの研究開発
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
化合物半導体/ Compound semiconductor
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
定 昌史
所属名 / Affiliation
理化学研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
糸数雄吏
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
NM-603：レーザー描画装置 [DWL66+]
NM-609：電子銃型蒸着装置 [ADS-E86]
NM-618：原子層エッチング装置 [PlasmaPro 100 ALE]
NM-619：赤外線ランプ加熱装置 [RTP-6 #2]
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
高効率の深紫外LED実現に向けてLEDチッププロセスの検討を行う。より具体的には、駆動電圧を低減するような電極形状、ならびに電極材料および熱処理条件の検討を行う。
実験 / Experimental
レーザー描画装置を用いてLED電極構造パターンを描画し、原子層エッチング装置を用いて適宜エッチングを行った。その後、電子ビーム蒸着装置を用いて電極を蒸着し、赤外線ランプ加熱装置を用いて熱処理を施した。作製したサンプルは理研に持ち帰り電気・光学特性の評価を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
レーザー描画装置を用いることで様々な電極間隔を有するパターンを一度に作製することが可能であり、パターンに応じてLED駆動電圧と光出力が変化することから最適な電極間隔を決定した。また、n型電極金属の構成および熱処理条件を詳細に検討し、接触抵抗が最小となる条件を決定した。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件