【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.21】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23UT1193

利用課題名 / Title

反応輸送シミュレーションと試作実験によるPEFCピラー電極構造の設計方法の開発

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

触診式段差計,全固体電池/ All-solid battery,スパッタリング/ Sputtering,電子線リソグラフィ/ EB lithography,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,ダイシング/ Dicing,光リソグラフィ/ Photolithgraphy

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

小柴 秀人

所属名 / Affiliation

東京大学工学系研究科機械工学専攻

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-604：高速シリコン深掘りエッチング装置
UT-600：汎用ICPエッチング装置
UT-900：ステルスダイサー
UT-711：LL式高密度汎用スパッタリング装置(2019)
UT-850：形状・膜厚・電気特性評価装置群

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

固体高分子形燃料電池(PEFC)での電解質膜に微細構造を付与する手法として熱ナノインプリント法を用いているのですが, そのために希望の金型が必要となっておりその金型を作製のために利用しました

実験 / Experimental

実施内容としてはシリコンウエハにCrのスパッタを行いレーザー直接描画によりマスクレスフォトリソグラフィを行なったのち現像しました
その後ドライエッチングにより希望の寸法の金型を作製を目指した

結果と考察 / Results and Discussion

４インチシリコンウエハに希望のホールを1cm*1cmの領域に加工した構造を求める寸法で作製できた. 作製した金型の寸法としてはホールの直径が１, 2µmとなり深さが２，４µm, ピッチ幅が３µmとなるような寸法の合計４種類の金型を作製した. (図1、図2、図3、図4)

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

図1. 幅1μm深さ2.0μmのホール金型

図2. 幅１μm深さ４μmのホール金型

図3. 幅2μm深さ2μmのホール金型

図4. 幅2μm深さ4μmのホール金型

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件