【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.27】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23NM5242
利用課題名 / Title
高機能垂直磁化膜の開発
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
磁気記録材料/ Magnetic recording materials,X線光電子分光（XPS（硬X線を含む））/ X-ray photoelectron spectroscopy,資源使用量低減技術/ Technologies for reducing resource usage,電子分光/ Electron spectroscopy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
高橋 有紀子
所属名 / Affiliation
物質・材料研究機構
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術代行/Technology Substitution
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
NM-202：硬X線光電子分光分析装置（HAX-PES/XPS）
NM-516：TEM試料作製装置群
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
loTおよびDXの進展に伴い世界で取り扱われるデジタル情報は指数関数的に増加している。デジタル情報はデータセンターで保存され、データセンターのメインストレージはハードディスクドライブ(HDD)である。FePtはHDDの磁気記録媒体として使われており、更なる高密度化が望まれている。本研究では、耐熱ガラス基板上に作製するFePtの配向制御のためのCr下地層がNiTaヒートシンク層の酸素暴露によって(001)配向する起源について明らかにすることを目的としている。
実験 / Experimental
基板／NiTa(100nm)／Alキャップおよび基板／NiTa(100nm)／酸素暴露／Alキャップ２種類の薄膜を用意し、XPSにて再表面のNiとTaの結合状態について比較した。
結果と考察 / Results and Discussion
図にNi2p、O1s、C1s、Al2p、Ta4fのＸＰＳスペクトルを示す。ごくわずかであるが、Taのバインディングエネルギーが酸素暴露サンプルにおいて高エネルギー側にシフトしているが、有意な差とは言えない。他の元素についても有意な違いは観測されない。このことから酸素暴露によりCrが(001)配向する理由は未だ不明である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
ガラス基板／NiTa／Alキャップ及びガラス基板／NiTa／酸素暴露／Alキャップ の２つのサンプルのXPSスペクトル
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件