【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.05.29】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23HK0119
利用課題名 / Title
TEM用液体セルチップMEMS微細加工
利用した実施機関 / Support Institute
北海道大学 / Hokkaido Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion
キーワード / Keywords
スパッタリング/ Sputtering,光リソグラフィ/ Photolithgraphy,膜加工・エッチング/ Film processing/etching,ダイシング/ Dicing,電子顕微鏡/ Electronic microscope,ナノ粒子/ Nanoparticles,燃料電池/ Fuel cell,太陽電池/ Solar cell,電極材料/ Electrode material
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
竹口 雅樹
所属名 / Affiliation
物質・材料研究機構
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
松尾保孝,遠堂敬史,佐々木仁,細井浩貴
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
HK-604：レーザー描画装置
HK-620：ICP高密度プラズマエッチング装置（フッ素）
HK-704：スパッタ装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
水分解触媒材料の研究のため、液体セル透過型電子顕微鏡法による液中での触媒試料の形態、微細構造、変形過程などのその場観察を行っている。実験目的に応じた液体セルカスタマイズが必要であるため、市販品ではなく、任意のデザインの高品質な液体セル用Siチップ（SiNウインドウ付き）の試作を依頼した。
実験 / Experimental
液体セルに用いるSiウインドウ付きSiチップの基本デザインはNIMSで行い、MEMS微細加工技術により、実際にSiチップの微細加工を行った。今年度はプロセス最適化の検証とプロトタイプの微細加工までを実施した。
結果と考察 / Results and Discussion
プロトタイプを作製することができた。SiO2のギャップ層作製部分でゴミ（リフトオフ残渣）を以下に減らすか、その技術が肝要であることが分かった。次年度に実際に液体セルに組み付け、液体中試料の観察を行って基本性能の評価を行う予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
北大ARIMの松尾保孝教授、遠堂敬史特任助教にプロセス検討から実際にプロトタイプ製作に至るまで大変お世話になりました。深く感謝申し上げます。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件