利用報告書 / User's Reports


【公開日:2024.07.25】【最終更新日:2024.05.30】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

23HK0064

利用課題名 / Title

反応物・乾燥物の赤外線吸収帯で放射するエミッタの研究開発と放射効果の実証

利用した実施機関 / Support Institute

北海道大学 / Hokkaido Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)計測・分析/Advanced Characterization

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions(副 / Sub)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed

キーワード / Keywords

波長制御エミッタ,電子顕微鏡/ Electronic microscope,メタマテリアル/ Metamaterial,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control,ALD,スパッタリング/ Sputtering,ダイシング/ Dicing


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

近藤 良夫

所属名 / Affiliation

日本ガイシ株式会社 NV推進本部 ビジネスクリエーション

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

戸谷 剛,小田島 聡

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

纐纈 ゆかり,松尾 保孝

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub),技術代行/Technology Substitution


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

HK-610:コンパクトスパッタ装置
HK-617:原子層堆積装置(粉末対応型)
HK-609:ヘリコンスパッタリング装置
HK-626:光学干渉式膜厚計
HK-705:ダイシングソー


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

反応物の波長5.882 μm(波数: 1700 cm-1 )の赤外線吸収帯に赤外線を放射するエミッタの実現を目的に,金属ー絶縁体ー金属(MIM)構造を持つ波長制御エミッタ(面積:50 mm × 50 mm)の作製を行った。 

実験 / Experimental

MIM構造の作製手順と利用した機関をFig. 1に示す。北海道大学のコンパクトスパッタでCrとAuをスパッタし,原子層堆積装置(ALD)でAl2O3を成膜した後,東京大学で電子線描画を行い,北海道大学で現像後,ヘリコンスパッタを用いてCrとAuをスパッタし,リフトオフすることでMIM構造を作製している。                   

結果と考察 / Results and Discussion

作製したMIM構造の垂直放射率をFig. 2に示す。Fig. 2のCenter_#1,#2は,50mm 角の中心付近を測定した1回目と2回目の垂直放射率のデータを示す。作製したMIM構造の垂直放射率が,目標とした波長域(5.882 μm付近)で大きくなっていることが分かる。 

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


Fig. 1 Fabrication process of MIM structure.



Fig. 2 Normal emissivity.


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

本研究は,北海道大学との共同研究にて実施しました。北海道大学の装置を利用するにあたり,北海道大学の小田島 聡 様,戸谷 剛 様に大変お世話になりま した。北海道大学以外に東京大学のARIM登録装置を利用しています。 


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:1件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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