【公開日：2024.07.25】【最終更新日：2024.02.27】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
23AT0206
利用課題名 / Title
フォトセンサの開発
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所 / AIST
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
smoothing,センサ/ Sensor,光学顕微鏡/ Optical microscope
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
清水 悦朗
所属名 / Affiliation
京セラ株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
小松 直佳
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
佐藤 平道
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）,技術補助/Technical Assistance
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
デバイス表面の平滑化を目的に機械研磨を行い、表面段差が軽減されていることを確認した。
実験 / Experimental
電極が形成され保護膜で被覆された基板を、研磨機で表面研磨し、研磨状態を触針式段差計【AT-045】で観察した。
結果と考察 / Results and Discussion
図1に研磨イメージを示す。段差がテーパーを持たせながら軽減され、かつ、ポリッシングされた滑らかな表面を得ることを目指した。図2は触針式段差計【AT-045】で測った研磨前の表面段差プロファイルである。図3は研磨後の表面段差プロファイルである。概ね狙い通りに、テーパーを持って段差を軽減できた。電極の角が露出することを懸念したが、生じなかった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 研磨イメージ
図2 研磨前の表面プロファイル
図3 研磨後の表面プロファイル
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
ご指導いただきましたスタッフの皆様に感謝申し上げます。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件