【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.21】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22HK9001
利用課題名 / Title
X線光電子分光装置を用いた標準試料測定データの取得
利用した実施機関 / Support Institute
北海道大学 / Hokkaido Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者）/Internal Use (by ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
電子分光,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
松尾 保孝
所属名 / Affiliation
北海道大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
山﨑郁乃,吉田すずか,鈴木啓太,遠堂敬史
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
HK-201：X線光電子分光装置
HK-406：X線光電子分光装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
日本電子社製のX線光電子分光分析装置 JPS-9200(HK-201, HK-406)を対象に、標準試料として使用される典型的なマテリアルのXPSスペクトル収集を目的とした。本課題にかかるデータはXPSラウンドロビンテストの結果を含み、他機関装置との比較が可能です。
実験 / Experimental
Siについては、Wide Scanを-5 ~ 1400 eV, Narrow ScanはSi 2p, O1s, C1s, VB (-5~34 eV)にて測定を行った。樹脂系のサンプルについては、Wide Scanを-5 ～ 1400 eV, Narrow ScanはC1s, O1s, VB(-5 ~ 32 eV)にて測定を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
標準試料の金、クリーンルームで作製したCVD成膜SiO2に加え、ARIM-XPS-FSでのラウンドロビンテストで使用した、PET・PMMA・n型Si・p型Siのスペクトルを得ることができた。また、学内にある同型機種間での比較を行い、機種依存性がないことを確認することができた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
(令和４年度 ARIMデータ事業スタートアッププログラム、令和４年度 ARIM XPS フィジビリティスタディ)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件