【公開日：2023.08.01】【最終更新日：2023.05.09】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22GA0023
利用課題名 / Title
Siのニードル形状加工
利用した実施機関 / Support Institute
香川大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
形状・形態観察,分析,レーザー式非接触三次元形状測定器,ニードル
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
杠 明日美
所属名 / Affiliation
アオイ電子株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
森 昭登
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
GA-003：スピンコータ－
GA-008：レーザー式非接触三次元形状測定器
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
これまでMicro Electro Mechanical Systems（MEMS）デバイスの付加価値向上のため、デバイスの一部にニードル形状の突起を作製してきた。更なる付加価値向上のため、新規の材料で本支援装置群を利用し、サンプルの作製・形状確認を行った。
実験 / Experimental
評価用サンプルは、4インチのSi基板とメタル基板を使用して、マグネトロンスパッタリング装置（芝浦メカトロニクス社製、CFS-4EP-LL ：登録外機器）を用いた金属膜のスパッタリング、スピンコータ（ミカサ社製、1H-DX2）、両面マスクアライナ（ズース・マイクロテック社製、MA6/BA6：登録外機器）を用いたフォトリソグラフィ法によるフォトレジストのパターニング、シリコン深堀エッチング装置（SPPテクノロジーズ社製、Muc-21 ASE Pegasus：登録外機器）を用いたドライエッチング、酸化/拡散炉（DSL社製、VESTA-2100：登録外機器）を用いた酸化処理、金属膜エッチング液やバッファードフッ酸を用いた金属膜・酸化膜のウェットエッチング等により作製した。
レーザー式非接触三次元形状測定器（三鷹光器社製、 NH-3N）を用いて作製した評価用サンプル形状の確認を行い、最適な加工条件を決定した。
結果と考察 / Results and Discussion
エッチング条件の異なる評価サンプルの一部をレーザー式非接触三次元形状測定器にて測定した3次元形状のデータを図1、図2に示す。3次元形状からエッチング条件Bのほうが表面を滑らかに作製できていることが分かり、最適な加工条件を決定することができた。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 エッチング条件Aの評価サンプル3次元形状
図2 エッチング条件Bの評価サンプル3次元形状
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
なし
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件