利用報告書 / User's Report

【公開日:2023.08.01】【最終更新日:2023.05.23】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22TT0018

利用課題名 / Title

水平櫛電極型アクチュエータの試作

利用した実施機関 / Support Institute

豊田工業大学

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)計測・分析/Advanced Characterization

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

表面プラズモン,電子顕微鏡/Electron microscopy,イオンミリング/Ion milling,集束イオンビーム/Focused ion beam,光学顕微鏡/Optical microscopy,赤外・可視・紫外分光/Infrared and UV and visible light spectroscopy,アクチュエーター/ Actuator,MEMSデバイス/ MEMS device,ナノフォトニクスデバイス/ Nanophotonics device,量子効果デバイス/ Quantum effect device


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

山口 堅三

所属名 / Affiliation

徳島大学ポストLEDフォトニクス研究所光基礎研究部門

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

渡邉 勇起

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

佐々木 実

利用形態 / Support Type

(主 / Main)共同研究/Joint Research(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

TT-005:マスクレス露光装置
TT-006:マスクアライナ装置
TT-007:レジスト処理(アッシング)装置
TT-008:洗浄ドラフト一式
TT-011:Deep Reactive Ion Etching装置(Boschプロセス)


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

 本研究は、サブナノ領域下の空間制御が可能なデバイスを実現し、表面プラズモン(surface plasmon以下SP)による量子効果発現の観測と、この制御を目的とする。本デバイスは、櫛歯型アクチュエータ構造による微小電気機械システム(Micro Electro Mechanical Systems以下MEMS)と、金属ナノ構造から成る。ここでは、前者のMEMSプロセスを豊田工業大学ARIMの佐々木実教授の下で作製した。

実験 / Experimental

 SOI基板から櫛歯型静電アクチュエータを有するMEMSデバイスを作製した。本デバイスの作製プロセスを図1に示す。始めに、SOI基板(図1(a)参照)にレジストを塗布し、デバイス層の表面にパターンを作製した(図1(b)参照)。次に、Deep-RIEによるデバイス層の深堀りエッチングを行った(図1(c)参照)。その後、基板層も同様にパターニングし(図1(d)参照)、BOX層を取り除くことでデバイスを中空上に形成した(図1(e)参照)。

結果と考察 / Results and Discussion

 作製したデバイスの光学顕微鏡像を図2に示す。図2より、水平櫛歯やスプリングの作製とサイズを確認した。また、電圧印加による静電動作駆動も確認した。今後は、これに金属ナノ構造を形成し、空間制御下でのSPの量子効果発現を観測する。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


図1. 櫛歯型MEMS静電アクチュエータの作製プロセス. 



図2. 櫛歯型MEMS静電アクチュエータの光学顕微鏡像. 


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)

・共同研究者:佐々木実教授(豊田工業大学) 本研究は、マテリアル先端リサーチインフラ事業(豊田工業大学の佐々木実教授)の支援を受けた。


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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