利用報告書 / User's Reports


【公開日:2023.07.28】【最終更新日:2023.05.15】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22NM0095

利用課題名 / Title

ICP-OESによる含希土類マグネシウム合金中の希土類元素の成分測定

利用した実施機関 / Support Institute

物質・材料研究機構 / NIMS

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)計測・分析/Advanced Characterization(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)マテリアルの高度循環のための技術/Advanced materials recycling technologies(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

電子分光,高度素材識別技術/ Advanced material identification technology


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

駒井 浩

所属名 / Affiliation

一般社団法人日本マグネシウム協会

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type

(主 / Main)技術代行/Technology Substitution(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

NM-203:誘導結合プラズマ発光分析装置群


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

日本マグネシウム協会において、含希土類マグネシウム合金に含有される、ネオジム(Nd)、ランタン(La)、プラセオジム (Pr)のそれぞれを定量する分析試験法を策定し、国際標準として提案するための規格原案の作成を行っている。規格原案の作成に向けて、検討している分析手法の確立及び信頼性の向上を図るため、対象元素が含有される含希土類マグネシウム合金の3種類の実試料及び2種類の認証標準物質を試料として、検討中の分析手順によってICP-OESを行い、材料の成分測定を行う。

実験 / Experimental

ICP-OESの装置を利用し、5種類の含希土類マグネシウム合金を試料として、Nd、La、Prを含めた材料中の成分を測定する分析試験を実施する。分析試験は、全6機関による共同分析試験とし、試験方法は日本マグネシウム協会の希土類分析試験法標準会で策定した分析手順によるものとした。

結果と考察 / Results and Discussion

共同分析試験の結果、Nd及びLaは濃度が1%以上であるとRSDは3%程度、0.1~1%で6%程度、Prは濃度0.1~1%で9%程度という結果を得た。湿式処理を伴うICP-OESで測定した場合のRSDは2%程度を示せば良い結果と言われるが、希土類元素では発光線が数多く近接していることと相まって、測定しようとする元素の他に含有されている希土類元素による干渉の影響が大きく、測定しようとする元素の波長が分かり難く、分析試験結果のRSDは2%以内となる場合が少ない。材料規格に設定される各元素の濃度範囲を勘案すると、許容範囲と言える結果であった。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

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