【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.16】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22NM0087
利用課題名 / Title
透明導電酸化物薄膜の組成分析
利用した実施機関 / Support Institute
物質・材料研究機構 / NIMS
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）物質・材料合成プロセス/Molecule & Material Synthesis（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）革新的なエネルギー変換を可能とするマテリアル/Materials enabling innovative energy conversion（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
マグネトロンスパッタ,プロセスガス,透明導電酸化物
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
野本 淳一
所属名 / Affiliation
産業技術総合研究所製造技術研究部門 リマニュファクチャリング研究グループ
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
西尾 満章
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
NM-207：電界放出形電子線プローブマイクロアナライザー装置
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
高品質高機能なフレキシブル透明導電酸化物薄膜の開発を目的に、成膜プロセスの最適化や新奇な後処理工程の開発を実施している。本課題では電子線プローブマイクロアナライザー (EPMA) を用いて薄膜の組成を分析し、電気・光学特性、及び結晶性や電子構造と合わせて議論することで、膜の機能発現の根幹の解明を目的とする。
実験 / Experimental
高周波 (RF)-MSまたは直流 (DC)-MS において無アルカリガラス基板 (Corning, Eagle-XG) 上に様々な成膜条件により厚さ約 100 nm の In2O3 膜を成膜した。形成された膜の In 組成や成膜時に混入するプロセスガス (Ar) は電界放出形電子線プローブマイクロアナライザー (EPMA) : JXA-8500F を用いて測定した。
結果と考察 / Results and Discussion
EPMA 測定の結果、全ての In2O3 薄膜で残留 Ar に起因する Ar-Ka 線がエネルギー 2.96 keV に確認された。上記 Ar-Ka スペクトルの面積強度を Ar 残留量として半定量化した。その結果、Ar-Ka 面積強度は成膜電力が高いほど、上昇することが分かった。すなわちスパッタカソードへ印加する成膜電力が高いとターゲット表面で反跳し基板へ到達する Ar が増え、結果として膜に取り込まれることを示唆する。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件