【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.05.19】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22UT1155
利用課題名 / Title
ハードディスク用ヘッドの平滑化の研究
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学 / Tokyo Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
研磨,レーザー顕微鏡,原子間力顕微鏡,膜加工・エッチング/Film processing and Etching,高品質プロセス材料/ High quality process materials
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
杉浦 聡
所属名 / Affiliation
（株）ナノフォトニックテクノロジーズ
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
橋本 和信
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
水島彩子
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
UT-800：クリーンドラフト潤沢超純水付
UT-307：走査型プローブ顕微鏡
UT-850：形状・膜厚・電気特性評価装置群
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
高密度ハードディスクに用いる磁気ヘッドの磁気記録媒体に接する面の平滑度は、サブナノメーターレベルに高める必要がある。我々が開発している、近接場光を用いてガラスや金属の表面をサブナノメートル以下の平面度に光研磨（近接場光エッチング）する技術を、この磁気ヘッドに適応するための基礎的な検討を行った。
実験 / Experimental
昨年度まで実施した、東大微細加工PFが所有する汎用ICPエッチング装置内に設置した試験ピースに、装置の外部からレーザー光を入れて、近接場光エッチングをする加工実験の結果をもとにして、新たに光研磨装置を自作した。この装置の性能確認と改造点を明確にするために、今年度は主に、照射光スポット径、スポット形状、偏光、光強度のパラメーターの確認を行った。マスクブランクスを用いて、Clを含む雰囲気中で紫外レーザーを照射して平滑化を図る近接場光エッチングの実験結果を図1に示す。光照射実験の前後で研磨面の様子をレーザー顕微鏡および原子間力顕微鏡（AFM）で評価した。
結果と考察 / Results and Discussion
AFMで測定を行ったところ、いくつかの実験パラメータで、近接場光エッチングを行うことにより、表面粗さ（Ra）等の改善が見られた。また、全体の平滑度も向上した。計測の再現性、光研磨の前後で同じ個所を測定する方法を確立し、より正確な評価を行えるように工夫することが重要であることが判明した。このことも含め、基礎的な実験の課題抽出を進めている。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図１ ガラスの光研磨実験測定例
(a)光研磨前の表面AFM像、(b)研磨後の表面AFM像
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
東京大学システムデザイン研究センター微細加工PF技術支援専門職員の水島彩子氏に、多くの助言や協力を頂いたことを感謝します。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件