【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.30】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22AT0032
利用課題名 / Title
ナノインプリントを使用した樹脂へのナノピラー構造形成
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）その他/Others（副 / Sub）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials
キーワード / Keywords
ナノインプリント,ナノピラー,撥水・親水性,撥油・親油性,中性粒子ビームエッチング
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
門井 幹夫
所属名 / Affiliation
リソテックジャパン株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
AT-004：電界放出形走査電子顕微鏡[S4800_FE-SEM]
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ナノサイズの量子ドット構造は、そのピラーサイズや間隔を制御する事により、撥水・親水性、撥油・親油性のコントロールを可能にする事が知られている。こうした技術は、窓材や表層材として、自動車や医療を始め広い分野において応用が期待されている。
本課題では、電子線描画装置を用いてSi基板上にナノサイズのホールパターンを形成し、中性粒子ビームエッチング装置によりSi基板上にナノサイズのホール加工を行う事によってインプリントのモールドを作成し、これを用いて樹脂上にナノピラー構造を形成する事を目指している（Fig.
1）。
実験 / Experimental
【使用装置】
NPF004電界放出形走査電子顕微鏡(S4800)
【実験方法】
ナノインプリント装置により、樹脂表面にナノサイズのドット構造を形成する事ができるかどうかを確認するため、市販のモールドによりPET樹脂上にパターンを形成し、FE-SEMにより観察を行った。
結果と考察 / Results and Discussion
自社で制作したナノインプリント装置により諸条件を調整した結果、200nmサイズのドット構造を形成する事ができた。その観察結果をFig. 2に示す。しかし剥離時には依然問題があり、シートの一部がモールドに付着し破損してしまった。この点については今後改善が必要である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 Process of Nanopillar Formation to Regin
Fig.2 Formation of nano-pillar patterns at a scale of 200 nm on the surface of the PET film
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件