【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.29】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22AT0112
利用課題名 / Title
EB描画装置用ネガレジスト膜厚分流実験
利用した実施機関 / Support Institute
産業技術総合研究所
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）その他/Others
キーワード / Keywords
ネガレジスト,ma-N2403
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
古賀 拓哉
所属名 / Affiliation
ティーイーアイソリューションズ株式会社
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
AT-004：電界放出形走査電子顕微鏡[S4800_FE-SEM]
AT-093：高速電子ビーム描画装置（エリオニクス）
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
EB描画装置用のネガレジストを使用して新規パターンの作製を検討している。最小寸法が100nmのラインを描画するにあたり、どの程度の膜厚でパターンが描画出来るか、ma-N2403の原液と1/2薄め液、1/3薄め液を用いて膜厚分流実験を行った。
実験 / Experimental
【利用した主な装置】
ホットプレート
スピンコーター（ＥＢ）【NPF113】
卓上型光学式膜厚計
【実験方法】
まず、ホットプレートを110℃設定にして、レジスト塗布前のウェハをホットプレート上に置いて水分を蒸発させる。ウェハの粗熱を良くとってからスピンコーターにセットし、レジスト密着液Surpass4000をウェハに塗布し3000rpmで30sec回転させた後に、ma-N2403原液、ma-N2403 1/2薄め液、ma-N2403 1/3薄め液の3種類のレジスト塗布をそれぞれ行って1500rpmで30sec回転させた後に、110℃に熱したホットプレートでプリベークを行い、卓上型光学式膜厚計でレジスト膜厚を測定した。
結果と考察 / Results and Discussion
膜厚の測定結果をFig.1のグラフに纏めてみた。ma-N2403原液で使用すると膜厚は400nmになってしまうため、100nmのラインを描画するとアスペクト比が4倍になってしまい、レジストが倒れてしまう可能性が高い、また原液で使用するとレジストの粘度が高いため、現像時間が長く掛かってしまいSiエッチやAlエッチが進んでしまう。次にma-N2403 1/3薄め液でエッチングまで進めてみると、Alよりもレジストの方がエッチレートが速いため、多層配線の重なり部分のレジストがエッチングされているのが確認された。
ma-N2403 1/2薄め液にて、新規パターン試作を行う事となった。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig.1 ma-N2403 Resist film thickness graph
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件