【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.05.30】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22UT0286
利用課題名 / Title
Pdナノ粒子及びPdAuナノ粒子の形態観察及び元素マッピング
利用した実施機関 / Support Institute
東京大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）次世代ナノスケールマテリアル/Next-generation nanoscale materials（副 / Sub）マルチマテリアル化技術・次世代高分子マテリアル/Multi-material technologies / Next-generation high-molecular materials
キーワード / Keywords
電子顕微鏡/Electron microscopy,ナノシート/ Nanosheet,3D積層技術/ 3D lamination technology,ハイエントロピー材料/ High entropy material
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
横田 幸恵
所属名 / Affiliation
上智大学
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
藤田 明日香
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
押川浩之,森田真理
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
Pdナノ粒子は触媒活性の向上や可視から近赤外の光で局在表面プラズモン共鳴を示す。Pdナノ粒子の形状制御や二元金属ナノ構造作製し、それらの新しい光学特性に関する研究を進めている。本年度は、液相合成したPdナノシートとAuナノリング-Pdナノシートの形態を観察するために、東京大学の設備を利用してTEM観察を行った。
実験 / Experimental
液相合成したPdナノ粒子及びAuPd二元ナノ粒子をTEMメッシュグリッドに塗布して乾燥後、高分解能分析電子顕微鏡（JEM-2010F） を用いて透過像を撮影し、EDS分析も行った。
結果と考察 / Results and Discussion
Pdナノシートは、サンプル塗布の手法により穴が開いてしまった形状も観察された。AuPd二元ナノ粒子では、EDS分析によりPdナノシート周辺に金が析出し、金リングが形成されたことを確認した。しかし、金ナノリングの幅が予想よりも細く、Auが析出していないPdナノシートも多数観察された。今後は液相合成の実験条件を変更する必要がある。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
- 安部 萌夏，藤田 明日香，内田 寛，横田 幸恵，「Pdナノキューブの液相合成とそのプラズモン特性」、第70回応用物理学会春季学術講演会（東京），2023年3月18日．
- 藤田 明日香，安部 萌夏，内田 寛，横田 幸恵、「パラジウムナノシートを触媒として用いた光照射下でのp-ニトロフェノール還元反応」，第70回応用物理学会春季学術講演会（東京），2023年3月15日．
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件