【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.05.30】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22UT0231

利用課題名 / Title

金属薄膜の分析

利用した実施機関 / Support Institute

東京大学 / Tokyo Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-

【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）量子・電子制御により革新的な機能を発現するマテリアル/Materials using quantum and electronic control to perform innovative functions（副 / Sub）-

キーワード / Keywords

走査プローブ顕微鏡/Scanning probe microscopy,X線回折/X-ray diffraction,表面・界面・粒界制御/ Surface/interface/grain boundary control

利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)

犬飼　 晃司

所属名 / Affiliation

JSR株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

利用形態 / Support Type

（主 / Main）技術補助/Technical Assistance（副 / Sub）,機器利用/Equipment Utilization

利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

UT-202：高輝度In-plane型X線回折装置
UT-007：高分解能分析電子顕微鏡

報告書データ / Report

概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

スパッタ成膜条件探索のため、XRDおよびTEMを用い、金属薄膜の結晶構造解析を行った。

実験 / Experimental

別途スパッタ成膜装置で成膜した金属薄膜をXRDおよびTEM観察を行い、結晶構造解析を行った。
成膜条件は、熱酸化膜付きSi基板上に室温でWを5nm成膜した。

結果と考察 / Results and Discussion

XRD分析の結果、明瞭なピークは観察されず、アモルファス状の薄膜であることがわかった。
また、TEM観察からもW層において明確な結晶構造は観察されず、アモルファス状であることがわかった。
今後は、このアニール処理後の金属薄膜を分析し、結晶構造に与える影響を調査していく予定である。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations

その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)

特になし

成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)

口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.

特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件