【公開日：2023.07.28】【最終更新日：2023.05.17】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22BA0047
利用課題名 / Title
分子機械の作製と評価
利用した実施機関 / Support Institute
筑波大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
外部利用/External Use
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）-
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
分子機械,走査プローブ顕微鏡/Scanning probe microscopy
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
櫻井 亮
所属名 / Affiliation
物質・材料研究機構
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
C Yoachim
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術代行/Technology Substitution（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
ナノギアを組み立てて分子機械を作製し、ナノスケールで起こる諸現象のメカニズムを解明する。
実験 / Experimental
集束ヘリウムイオンビームを用いて削り出したグラフェンシート上のナノギアの形状を走査プローブ顕微鏡で確認した。また、ナノギアをプローブで動かすことを試みた。
結果と考察 / Results and Discussion
集束ヘリウムイオンビームを用いて削り出したグラフェンシート上のナノスケールの円板状構造の形状を、走査プローブ顕微鏡を用いて詳細に調べた。削り出しに用いるビームのドーズ量が多いと円板の溶融やグラフェン基板の膨張が起こること、ドーズ量が少なすぎると照射した部分のみが盛り上がっていることなどの形状変化の様子を知ることができた。集束ヘリウムビーム照射による高さ方向の構造や形状の変化、ヘリウムイオン顕微鏡では観察できない小さな変化を走査プローブ顕微鏡による観察を通して得ることができた。これらの観察結果を基にして、集束ヘリウムイオンビームによるナノスケールの加工メカニズムを解明する予定である。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件