利用報告書 / User's Reports


【公開日:2023.07.28】【最終更新日:2023.05.16】

課題データ / Project Data

課題番号 / Project Issue Number

22BA0034

利用課題名 / Title

パターン塗布製品開発のための基礎研究

利用した実施機関 / Support Institute

筑波大学 / Tsukuba Univ.

機関外・機関内の利用 / External or Internal Use

外部利用/External Use

技術領域 / Technology Area

【横断技術領域 / Cross-Technology Area】(主 / Main)加工・デバイスプロセス/Nanofabrication(副 / Sub)-

【重要技術領域 / Important Technology Area】(主 / Main)その他/Others(副 / Sub)-

キーワード / Keywords

エラストマー/ Elastomer,配電・接合・実装/ Power distribution, bonding, implementation


利用者と利用形態 / User and Support Type

利用者名(課題申請者)/ User Name (Project Applicant)

齋藤 崇之

所属名 / Affiliation

デクセリアルズ株式会社

共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes

村井亮介

ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes

谷川俊太郎

利用形態 / Support Type

(主 / Main)機器利用/Equipment Utilization(副 / Sub)-


利用した主な設備 / Equipment Used in This Project

BA-010:インクジェットパターン形成装置


報告書データ / Report

概要(目的・用途・実施内容)/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)

20 μm以下の微細パターンを作成し、実装材料および実装材の製品開発へと利用するため、筑波大学の設備「インクジェットパターン生成装置」を利用し、評価を行った。評価において“Agナノインク” および“UV硬化粘着剤”を用いて、微細パターン描画の評価を行い、製品への展開検討および材料開発の基礎評価を行った。

実験 / Experimental

【利用した主な装置】
インクジェットパターン生成装置 ST050 
【実験方法】
評価材料:Agナノインク/社内開発品UV硬化型粘着剤
塗布基材:Siウエハ/PET基材
インクジェットパターン生成にて、各材料と各基材での塗布評価をし、20 μm以下のパターン形成が可能な組み合わせの評価を実施。パターン形成品を社内に持ち帰り、次工程プロセスへ展開し評価を実施した。評価結果を元に、UV硬化型粘着の開発にフィードバックした。

結果と考察 / Results and Discussion

評価① ドット塗布評価
微細塗布パターン技術の評価にあたり、ドット塗布による各組み合わせの最適化評価を実施。評価/判定は、ドット塗布品をレーザー顕微鏡にてドットサイズを計測(図1参照)し、20 μm以下のサイズ塗布可能なものを判定した。評価結果一覧を表1に示す。Agナノインク②とUV硬化粘着剤②のみ、20 μm以下サイズのドット形状の安定塗布が可能であった。UV硬化粘着剤の開発では、粘度/表面張力の調整が必要である判明した。本結果より、ラインパターンの評価へのインクを選定し、ラインパターン塗布の評価へ移行した。

評価② ラインパターン塗布評価
評価①にて選定したインクを用いて、20 μm以下のパターンを目指し、ラインパターン塗布のテストを実施した。Agナノインクの塗布結果を図2にUV硬化粘着剤を図3に示す。いずれも想定した20 μm以下のラインパターンを形成可能。ドット評価による材料開発/選定により、微細パターン描画の判断が付くことが分かった。また、ラインパターン塗布用のUV硬化粘着剤の材料開発に有効なデータ(液粘度/表面張力の調整)が得られた。

図・表・数式 / Figures, Tables and Equations


図1 ドット径計測



表1 ドット塗布評価結果



図2 Agナノインクライン塗布結果



図3 UV硬化粘着剤ライン塗布結果


その他・特記事項(参考文献・謝辞等) / Remarks(References and Acknowledgements)


成果発表・成果利用 / Publication and Patents

論文・プロシーディング(DOIのあるもの) / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents

特許出願件数 / Number of Patent Applications:0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents:0件

印刷する
PAGE TOP
スマートフォン用ページで見る