設備分類リスト
※当Webサイトの共用設備検索システム「設備分類からさがす」で使用している大分類と中分類のリストです。
※大分類名をクリックすると、その大分類での絞り込み結果ページが表示されます。
A. 質量分析
- 二重収束質量分析
- 四重極質量分析
- 飛行時間質量分析
- イオントラップ質量分析
- フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴質量分析
- 誘導結合プラズマ質量分析
- マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析
- 直接イオン化質量分析
- ガスクロマトグラフ質量分析
- 液体クロマトグラフ質量分析
- その他
B. クロマトグラフ
- ガスクロマトグラフ
- イオンクロマトグラフ
- 液体クロマトグラフ
- ゲル浸透クロマトグラフ
- その他
C. 磁気共鳴
- 核磁気共鳴装置
- 磁気共鳴画像観察
- 電子スピン共鳴
- その他
D. 状態分析（各種分光法（元素分析・振動モード・電子状態）を含む）
- 誘導結合プラズマ発光分光
- X線蛍光分光分析
- 赤外分光
- 近赤外分光
- ラマン分光
- 紫外・可視分光
- 円二色性分光
- 紫外光電子分光（UPS）
- X線光電子分光（XPS（硬X線を含む））
- オージェ電子分光
- エックス線吸収端構造解析
- 陽電子消滅法
- その他
- 光電子顕微鏡
- 電子線プローブマイクロアナライザー（EPMA）
- 二次イオン質量分析（SIMS）(TOF、磁場など）
- グローディスチャージ発光分析（GDOS）
- ラザフォード後方散乱（RBS）
- 表面プラズモン共鳴装置
- その他
F. 回折・散乱
- X線回折
- 単結晶X線回折
- 中性子回折
- 電子回折
- X線トポグラフィー
- X線マイクロトモグラフィー
- その他
G. バイオ装置
- リアルタイムPCR装置
- PCR装置
- プレートリーダー
- レーザースキャナー
- フローサイトメトリー
- セルソーター
- 電気泳動装置
- ゲルイメージング装置
- レーザーマイクロダイセクション
- DNAシーケンサー
- その他
H. 熱分析装置
- 示差走査熱量分析
- 熱重量分析
- 示差熱・熱重量同時測定
- 熱機械分析
- 粘弾性測定
- その他
I. 光学顕微鏡
- 共焦点レーザー走査型顕微鏡
- 蛍光顕微鏡
- 実体顕微鏡
- 超解像顕微鏡
- 位相差顕微鏡
- その他
J. 透過電子顕微鏡
- 透過型電子顕微鏡
- 走査型透過電子顕微鏡
- 超高圧電子顕微鏡
- クライオ電子顕微鏡
- 三次元電子顕微鏡
- 光・電子相関顕微鏡
- 光電子顕微鏡
- 低エネルギー電子顕微鏡
- その他
K. 走査型顕微鏡
- 走査型電子顕微鏡
- 走査型プローブ顕微鏡
- 走査型X線顕微鏡
- その他
L. 微小加工装置
- 集束イオンビーム（FIB）
- イオンミリング（断面加工）
- イオンミリング（TEM試料作製）
- ウルトラミクロトーム（TEM試料作製）
- その他
M. 膜厚・粒度測定
- 段差計
- 膜厚測定
- エリプソメーター
- 接触角計
- 粒度分布測定（動的光散乱）
- 粒度分布測定（静的光散乱）
- 蒸気圧式絶対分子量測定
- その他
N. 成膜装置
- 原子層堆積（ALD）装置
- コーター（スピン、ディップ、スプレイなど）
- 化学蒸着（CVD）装置
- 電着装置
- ラングミュア - ブロジェット膜堆積装置
- プラズマ溶射装置
- スッパタリング（スパッタ）
- 蒸着（抵抗加熱、電子線）
- MBE（分子線エピタキシー）
- めっき
- ダイアモンド成長
- CNT・グラフェン成長
- その他PVD（プラズマ溶射、エレクトロスピニング、エレクトロスプレイ）
- 成長炉（ダイヤモンド、CNT・グラフェン、ほか）
- その他
O. 成形装置
- 冷間圧延ローラー
- 引抜金型
- 押出金型
- 鍛造機械
- ホットプレス
- 熱間圧延ローラー
- 粉砕機
- 鋳型
- 3Dプリンタ
- その他
P. リソグラフィ
- 光露光（マスクアライナ）
- 光露光（ステッパ）
- 光露光（マスクレス、直接描画）
- 電子線描画（EB）
- ナノインプリント
- レジスト処理装置
- その他
Q. 膜加工・エッチング
- プラズマエッチング
- ウェットエッチング
- ガスエッチング
- レーザー加工
- その他
R. 熱処理・ドーピング
- 酸化
- 拡散
- イオン注入
- 熱処理、レーザーアニール
- 成長炉
- その他
S. その他加工装置
- インクジェット堆積装置
- その他
T. 合成設備
- 分注機
- 遠心機
- 撹拌機
- その他
U. 組立・パッケージング
- 接合・接着
- ダイシング、スクライバ
- 研磨（化学、機械）
- ダイボンダ・ワイヤボンダ
- その他
V. 表面処理・洗浄
- サンドブラスト
- プラズマ処理
- ウェット処理
- CO2洗浄
- SAM処理（ウェット、ドライ）
- その他
W. 機械特性
- 圧縮試験
- クリープ試験
- 動的機械分析
- 疲労試験
- 硬度計
- ナノインデンテーション試験
- せん断 ねじれ
- 引っ張り試験
- 粘弾性測定
- その他
X. デバイス特性
- 電気特性評価
- 振動・変形測定
- 太陽電池評価
- 環境試験機
- その他
Y. 磁気特性
- 気特性測定システム
- 物理特性測定装置
- 振動試料型磁束計
- メスバウアー分光
- その他
Z. 電気化学
- 電流滴定
- 電位差測定
- 電流測定
- その他
AA. 理論計算・シミュレーション
- 電子状態計算
- シミュレーション
- CAD
- 機械学習
- その他