A. 質量分析

• 二重収束質量分析
• 四重極質量分析
• 飛行時間質量分析
• イオントラップ質量分析
• フーリエ変換イオンサイクロトロン共鳴質量分析
• 誘導結合プラズマ質量分析
• マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析
• 直接イオン化質量分析
• ガスクロマトグラフ質量分析
• 液体クロマトグラフ質量分析
• その他

D. 状態分析（各種分光法（元素分析・振動モード・電子状態）を含む）

• 誘導結合プラズマ発光分光
• X線蛍光分光分析
• 赤外分光
• 近赤外分光
• ラマン分光
• 紫外・可視分光
• 円二色性分光
• 紫外光電子分光（UPS）
• X線光電子分光（XPS（硬X線を含む））
• オージェ電子分光
• エックス線吸収端構造解析
• 陽電子消滅法
• その他

G. バイオ装置

• リアルタイムPCR装置
• PCR装置
• プレートリーダー
• レーザースキャナー
• フローサイトメトリー
• セルソーター
• 電気泳動装置
• ゲルイメージング装置
• レーザーマイクロダイセクション
• DNAシーケンサー
• その他

J. 透過電子顕微鏡

• 透過型電子顕微鏡
• 走査型透過電子顕微鏡
• 超高圧電子顕微鏡
• クライオ電子顕微鏡
• 三次元電子顕微鏡
• 光・電子相関顕微鏡
• 光電子顕微鏡
• 低エネルギー電子顕微鏡
• その他

M. 膜厚・粒度測定

• 段差計
• 膜厚測定
• エリプソメーター
• 接触角計
• 粒度分布測定（動的光散乱）
• 粒度分布測定（静的光散乱）
• 蒸気圧式絶対分子量測定
• その他

P. リソグラフィ

• 光露光（マスクアライナ）
• 光露光（ステッパ）
• 光露光（マスクレス、直接描画）
• 電子線描画（EB）
• ナノインプリント
• レジスト処理装置
• その他

S. その他加工装置

• インクジェット堆積装置
• その他

V. 表面処理・洗浄

• サンドブラスト
• プラズマ処理
• ウェット処理
• CO2洗浄
• SAM処理（ウェット、ドライ）
• その他

Y. 磁気特性

• 気特性測定システム
• 物理特性測定装置
• 振動試料型磁束計
• メスバウアー分光
• その他