電子銃型蒸着装置 [ADS-E86]
最終更新日:2024年2月29日
設備ID | NM-609 |
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分類 | 成膜装置 > 蒸着(抵抗加熱、電子線) |
設備名称 | 電子銃型蒸着装置 [ADS-E86] (EB Evaporator [ADS-E86]) |
設置機関 | 物質・材料研究機構 (NIMS) |
設置場所 | NIMS千現地区 材料信頼性実験棟 |
メーカー名 | アールデック (R-DEC) |
型番 | ADS-E86 |
キーワード | 蒸着、薄膜、金属、リフトオフ、電子銃、EB、蒸着(抵抗加熱、電子線)/ Evaporation (resistance heating and electron beam) |
仕様・特徴 | ・用途:自動金属薄膜形成 ・蒸着方式:電子銃型 ・ターゲット:Ti, Cr, Al, Ni, Au, Pt ・到達真空度:10-5 Pa ・TS間距離:500 mm ・最大試料サイズ:φ8inch ・その他:ロードロック式、水冷式試料ステージ |
設備状況 | 稼働中 |
本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NM-609 |