イオン注入装置
最終更新日：2022年4月9日
| 設備ID | NU-201 |
|---|---|
| 分類 | 熱処理・ドーピング > イオン注入 |
| 設備名称 | イオン注入装置 (Ion implantation) |
| 設置機関 | 名古屋大学 |
| 設置場所 | 先端技術共同研究施設 |
| メーカー名 | 日新電機 (Nissin Electric) |
| 型番 | NH-20SR-WMH |
| キーワード | イオン注入 ドーピング |
| 仕様・特徴 | ・加速電圧：5-200kV ・注入電流1 µA～100 µA |
| 設備状況 | 稼働中 |
| 本設備の利用事例 | https://nanonet.mext.go.jp/user_report.php?keyword=NU-201 |
