利用報告書検索
“NU-201“ で検索した結果 9件
表示件数
- 23NU0229
- 高純度同位体シリコンエピ基板上の量子デバイス作製
- 2024.7.25
- 名古屋大学
- 23NU0230
- 半導体におけるスピン物性評価
- 2024.7.25
- 名古屋大学
- 23NU0256
- イオン注入法によるシリサイド半導体への不純物のドーピング
- 2024.7.25
- 名古屋大学
- 23NU0276
- 有機膜へのArイオン注入の検討
- 2024.7.25
- 名古屋大学
- 22NU0274
- 抵抗検出型磁気共鳴測定のためのリンドープシリコン試料の作成
- 2023.8.1
- 名古屋大学
- 22NU0272
- 強誘電体/半導体界面におけるスピン物性評価
- 2023.8.1
- 名古屋大学
- 22NU0269
- 陽極酸化ポーラスダイヤモンドの表面処理
- 2023.8.1
- 名古屋大学
- 22NU0262
- イオン注入法によるシリサイド半導体への不純物のドーピング
- 2023.8.1
- 名古屋大学
- 22NU0241
- フォトニックデバイスに関する研究
- 2023.8.1
- 名古屋大学