【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.04.26】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22WS0089
利用課題名 / Title
有機強誘電体（絶縁体）単結晶試料の特性評価のための電極の形成と特性評価
利用した実施機関 / Support Institute
早稲田大学
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）計測・分析/Advanced Characterization（副 / Sub）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
表面処理, 電気計測,蒸着・成膜/Evaporation and Deposition
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
寺澤 有果菜
所属名 / Affiliation
早稲田大学 各務記念材料技術研究所
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
星野勝美
利用形態 / Support Type
（主 / Main）技術相談/Technical Consultation（副 / Sub）,機器利用/Equipment Utilization
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
強誘電体単結晶の誘電特性評価の電極作製のため、早稲田大学の設備を利用して金属を成膜した。
実験 / Experimental
電子ビーム蒸着装置（WS-002）で単結晶試料に金属をスパッタした。誘電特性評価のための電極とするため、プレート状の単結晶試料の両面に同種金属をスパッタした。
結果と考察 / Results and Discussion
Fig.1にEB蒸着によって金が成膜された試料を示す。精密に蒸着条件を検討し調整した結果、試料にダメージが加わらず試料の両面に金が成膜された。両面とも均一に金が成膜されたことから、電極として適切な成膜をすることができたと考えられる。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
Fig. 1 Image of Au sputtering on a single crystal.
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
・星野勝美様（早稲田大学 ナノテクノロジー研究センター）に感謝します。
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件