【公開日：2023.07.31】【最終更新日：2023.04.26】
課題データ / Project Data
課題番号 / Project Issue Number
22WS0085
利用課題名 / Title
Al2O3 WGAチップの製作
利用した実施機関 / Support Institute
早稲田大学 / Waseda Univ.
機関外・機関内の利用 / External or Internal Use
内部利用（ARIM事業参画者以外）/Internal Use (by non ARIM members)
技術領域 / Technology Area
【横断技術領域 / Cross-Technology Area】（主 / Main）加工・デバイスプロセス/Nanofabrication（副 / Sub）計測・分析/Advanced Characterization
【重要技術領域 / Important Technology Area】（主 / Main）高度なデバイス機能の発現を可能とするマテリアル/Materials allowing high-level device functions to be performed（副 / Sub）-
キーワード / Keywords
成膜, リソグラフィ, 膜加工・エッチング, 形状・形態観察,電子顕微鏡/Electron microscopy,リソグラフィ/Lithography,膜加工・エッチング/Film processing and Etching,ALD,ナノフォトニクスデバイス/ Nanophotonics device
利用者と利用形態 / User and Support Type
利用者名（課題申請者）/ User Name (Project Applicant)
鈴木 彩斗
所属名 / Affiliation
早稲田大学 先進理工学研究科 応用物理学科
共同利用者氏名 / Names of Collaborators in Other Institutes Than Hub and Spoke Institutes
ARIM実施機関支援担当者 / Names of Collaborators in The Hub and Spoke Institutes
野崎義人,加藤篤,坂口千佳
利用形態 / Support Type
（主 / Main）機器利用/Equipment Utilization（副 / Sub）-
利用した主な設備 / Equipment Used in This Project
WS-004：原子層堆積装置
WS-007：ICP-RIE装置
WS-012：電界放出型 走査電子顕微鏡
WS-015：電子ビーム描画装置
WS-026：高性能分光エリプソメータ
報告書データ / Report
概要（目的・用途・実施内容）/ Abstract (Aim, Use Applications and Contents)
光学測定用のシリコンフォトニックチップを作製するため、NTRCの設備を利用してデバイス作製を行った。
実験 / Experimental
電子ビーム描画装置（WS-015）およびICP-RIE装置（WS-007）を用いたEBリソグラフィによりSOIウェハの上層Siに光導波路構造を構成したのち、原子層堆積装置（WS-004）を用いてAl2O3層を成膜した。さらにEBリソグラフィによりグレーティング構造を構成することで、Al2O3 WGAチップを作製した。
結果と考察 / Results and Discussion
図2にAl2O3グレーティング構造の断面観察像を示す。これは断面観察用の構造を劈開し、電界放出型 走査電子顕微鏡（WS-012）で観察したものである。ドライエッチングによってAl2O3のグレーティング構造が形成されていることが判る。このプロセスで作製したAl2O3 WGAチップについて、研究室の光学測定系で遠視や測定を行ったところ、良好な特性を得た。
図・表・数式 / Figures, Tables and Equations
図1 Al2O3 WGAチップ作製プロセス
図2 Al2O3グレーティング構造の断面SEM観察像
その他・特記事項（参考文献・謝辞等） / Remarks(References and Acknowledgements)
鈴木彩斗，「Al2O3を用いたSOI上長尺WGAのビーム狭窄化検討とデバイス試作」，修士論文，早稲田大学，2023．
成果発表・成果利用 / Publication and Patents
論文・プロシーディング（DOIのあるもの） / DOI (Publication and Proceedings)
口頭発表、ポスター発表および、その他の論文 / Oral Presentations etc.
特許 / Patents
特許出願件数 / Number of Patent Applications：0件
特許登録件数 / Number of Registered Patents：0件